مطالعه خواص اپتیکی لایه های نازک سولفید تنگستن پخت شده در اتمسفر های مختلف شامل آرگون، آرگون هیدروژن و آمونیاک آب و اکسیژن
Study on optical properties of WS2 thin films annealed in various atmospheres including Ar Ar H2 NH3 H2O and O2
نویسندگان :
فرشاد قلی زاده ( دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) قزوین ) , علی ریحانی ( دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) قزوین ) , سیده زهرا مرتضوی ( دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) ) , پرویز پروین ( دانشگاه صنعتی امیر کبیر )
چکیده
در این پژوهش ، نانوساختار های دی سولفید تنگستن به روش رسوب بخار شیمیایی گرمایی در کوره سه ناحیه ای بر روی زیر لایه های 〖SiO〗_2 Si سنتز شدند. بدین منظور پودرهای گوگرد و اکسید تنگستن به ترتیب در ناحیه های اول و سوم در دما های C°220 و c°1100 تحت جریان گاز آرگون قرار گرفتند. سپس نمونه ها جهت بازپخت ، در بوته ای در مرکز کوره تک ناحیه ای قرار داده شدند. لایه های رشد یافته تحت گاز های مختلف آمونیاک ، هیدروژن ، اکسیژن و آرگون در دمای °450 به مدت 30 دقیقه مجدد پخت شدند. جهت بررسی اثر بازپخت، آنالیز های پراش اشعه ایکس ، طیف سنجی رامان و طیف سنجی فرابنفش-مرئی انجام شد. نتایج حاکی از تاثیر اتمسفر هیدروژن بر روی بهبود خواص اپتیکی لایه های سنتز شده است.کليدواژه ها
دی سولفید تنگستن ، رسوب بخار شیمیایی گرمایی، خواص اپتیکی و عملیات حرارتیکد مقاله / لینک ثابت به این مقاله
برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است :نحوه استناد به مقاله
در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:پرویز پروین , 1401 , مطالعه خواص اپتیکی لایه های نازک سولفید تنگستن پخت شده در اتمسفر های مختلف شامل آرگون، آرگون هیدروژن و آمونیاک آب و اکسیژن , سومین کنفرانس ملی میکرو/نانوفناوری
دیگر مقالات این رویداد
© کلیه حقوق متعلق به دانشگاه بین المللی قزوین می‌باشد.